OAI INSTRUMENTS是业内生产可靠并精密设备的MEMS，半导体，纳米技术，洁净室自动化和紫外线光测量的 制造商。OAI系统可同时用于研发和生产半导体，MEMS和微流体装置。从光罩对准和UV光源UV电力仪表，OAI是在同行业中的 者超过35年。OAI光功率计以其测量精度，重复性著称，测量数据符合美国NIST标准，广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。
产品范围：
美国OAI INSTRUMENTS曝光机、OAI INSTRUMENTS光刻机、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率计、OAI INSTRUMENTS分析仪
主要型号：
Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459
美国OAI INSTRUMENTS Model 800半自动光刻机简介：
光刻方式：接近式，软，硬，真空接触式
曝光距离：0-3000μm
间隙调节步进：1um
机械精度：1.5um
光刻精度：软接触2um,硬接触小于1um
美国OAI INSTRUMENTS Model 6000全自动光刻机技术规格：
光刻方式：接近式，软，硬，真空接触式
基底尺寸：2-12寸晶圆或者 大200mm方形
曝光分辨率：
真空接触:0.5-0.8um
硬接触:0.8-1.0um
软接触:1.0-3.0um
接近式(20um 间隙):3.0um
曝光均匀性：优于±3%
对准精度：顶面0.5um，底面1.0um（选件）
产量：180片/小时 大
QQ：1325426082广告业务:
